Stange: „Weichen für die Zukunft des Mikroelektronik Standortes gestellt“

„Die Weiterentwicklung vorhandener moderner Halbleiterprodukte zu neuen 3-dimensionalen Strukturen gilt heute als bedeutende strategische Schlüsseltechnologie. Der Mikro- und Nanotechnologiestandort Dresden wird seine Bedeutung am besten erhalten können, wenn er die 3 D-Integration wissenschaftlich entwickelt, in praxisrelevante Technologien überführt und zeitnah zur Produktion bringt“, so Stange weiter. Für den Freistaat Sachsen und die hier angesiedelten Hightech Unternehmen biete der Aufbau der neuen Fraunhofer-Einrichtung die Möglichkeit, bei der Technologieentwicklung Schritt zu halten. Profitieren würden auch Klein- und mittlere Unternehmen durch die Bereitstellung und Entwicklung notwendiger Geräte, Anlagen und Verfahren. Große Unternehmen in Sachsen, Deutschland und darüber hinaus kämen als Endabnehmer von 3 D-Silizium-Systemen in Betracht.

Für die Entscheidung zur Ansiedlung des ASSID-Zentrums in Dresden dürfte die in und um Dresden vorhandene Infrastruktur der Hochschulen und außeruniversitären Forschungseinrichtungen, die Nähe zu den Industriepartnern AMD, Infineon, Qimonda, MPD, X-Fab und ZMD sowie zu den anderen Unternehmen von „Silicon Saxony“ ausschlaggebend gewesen sein. Diese Ballung bilde "eine sehr gute Voraussetzung, die 3 D-Integration zu einem leistungsfähigen Angebot am Standort Dresden mit bundesdeutscher und internationaler Ausstrahlung auszubauen“, so Stange.

Finanziert wird der Aufbau der Fraunhofer-Einrichtung mit Erstausstattungsmitteln von ca. 49 Millionen Euro aus dem Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) und paritätischen Mitteln des Bundes und des Freistaates Sachsen (je 17,4 %).

Nach den derzeit laufenden Planungen soll das Zentrum im Dezember dieses Jahres seine Arbeit am Standort Dresden aufnehmen. Damit könnte sich Dresden zum größten Fraunhofer Standort Deutschlands entwickeln. Das Zentrum soll in dieser Aufbaustufe bis zu 40 Mitarbeiter beschäftigen.

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